产品中心
产品介绍
-
产品简介
铬靶材是一种用于物理研究、半导体制造和表面涂层等领域的重要材料。
材料特性
化学稳定性：铬具有良好的化学稳定性，在常温下不易与氧气、水蒸气等发生反应，因此铬靶材在使用过程中不易氧化或腐蚀。
耐高温性：铬具有较高的熔点和热稳定性，能够承受高温加工和使用条件，适用于高温热处理和涂层制备等工艺。
良好的导电性：铬是一种良好的导电金属，具有较低的电阻率和良好的导电性能，适用于电子器件的制备和电磁场应用等领域。
应用领域
物理研究：铬靶材常用于物理研究领域，如核物理实验、粒子加速器、X射线衍射等，用于产生高能量的离子束或电子束。
半导体制造：在半导体制造工艺中，铬靶材常用于物理气相沉积（PVD）或磁控溅射（sputtering）等过程中，用于沉积或镀覆薄膜，制备电子器件、光学器件或涂层材料。
涂层材料：铬靶材也可以用于制备表面涂层，如镜面涂层、防腐蚀涂层等，提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和光学性能等。
制备方法
粉末冶金法：铬粉末经过压制、烧结等工艺制备成块状或片状的铬靶材。
熔炼法：铬可以通过真空熔炼或等离子弧熔炼等方法制备成块状或片状的铬靶材。
特殊合金
有时，为了改善靶材的特性，铬靶材可能会添加其他元素，如钼（Mo）、铁（Fe）等，以调节材料的性能和应用范围。
产品留言
地址：中国 (河南) 自由贸易试验区洛阳片区(高新)东马沟工业园1号院1-9区